中间掩膜设计
支持Stepper方式曝光装置的中间掩膜设计
- 多面板的分析
- 中间掩膜Cell生成
- Stepper方式的面板分割
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中间掩膜布图规划工具
SX-Meister FineRFP
■强大的中间掩膜设计环境
- Cell自动分割和Blind/补正图形自动生成
- 更容易分析shot图形的布置
玻璃基板和中间掩膜之间的交叉分析 - 丰富的检查功能
考虑stage可移动量和stroke的曝光可能性检查、blind领域检查、
shot间隔检查、stroke违反检查 - 浮标信息输出功能
(shot、alignment mark的 中心座标输出<CSV、Text>)
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玻璃基板布图规划工具
SX-Meister FineGFP
■支持多面板的玻璃基板设计
- 根据基本shot和中间掩膜参数进行玻璃基板设计
便利的多面板条件检证功能
输出玻璃基板和中间掩膜 - 根据玻璃基板和shot信息预估最优的浮标信息
- 从玻璃基板和中间掩膜输出多面板分布和浮标信息
- 根据浮标信息高亮显示shot cell
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