中间掩膜设计

支持Stepper方式曝光装置的中间掩膜设计

  • 多面板的分析
  • 中间掩膜Cell生成
  • Stepper方式的面板分割
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中间掩膜布图规划工具

SX-Meister FineRFP

■强大的中间掩膜设计环境

  • Cell自动分割和Blind/补正图形自动生成
  • 更容易分析shot图形的布置
    玻璃基板和中间掩膜之间的交叉分析
  • 丰富的检查功能
    考虑stage可移动量和stroke的曝光可能性检查、blind领域检查、
    　shot间隔检查、stroke违反检查
  • 浮标信息输出功能
    （shot、alignment mark的 中心座标输出<CSV、Text>）
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玻璃基板布图规划工具

SX-Meister FineGFP

■支持多面板的玻璃基板设计

  • 根据基本shot和中间掩膜参数进行玻璃基板设计
    便利的多面板条件检证功能
    输出玻璃基板和中间掩膜
  • 根据玻璃基板和shot信息预估最优的浮标信息
  • 从玻璃基板和中间掩膜输出多面板分布和浮标信息
  • 根据浮标信息高亮显示shot cell